對模具進行拋光的目的主要有兩個（gè）：

一、是增加塑料模具光（guāng）亮（liàng）度、美觀（guān）度（dù）；

二、是使模具更容易脫模。

在進行（háng）拋光時（shí），一（yī）般（bān）先使用粗的油（yóu）石對（duì）機械加（jiā）工（gōng）的模具型腔表麵進行粗的打磨，打（dǎ）磨去機加刀（dāo）具的刀痕（hén），然後再使用細的油石（shí）打磨去粗油石打的痕跡，然後再用細的（de）砂（shā）紙對細油石打磨過的表麵再進（jìn）行打磨，最（zuì）後再使用拋光膏或研磨膏對模具的型（xíng）腔表（biǎo）麵進行最後的精拋光打磨，最後達到光亮如鏡的效果。

日常生活中，我們常見的塑料模具拋光方（fāng）式有六種：

1.機（jī）械拋光

機械拋光是靠切削（xuē）、材料表麵塑性變形去掉被拋光後的凸部（bù）而得到平滑麵的拋光方法，一般使用油石（shí）條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表麵，可使（shǐ）用轉台等輔助工具，表（biǎo）麵質（zhì）量要（yào）求（qiú）高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨（mó）料的研拋液中，緊壓在（zài）工件被加工表麵上，作高速（sù）旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的（de）表麵粗糙度（dù），是各（gè）種拋光方法中最高的。光學（xué）鏡片模（mó）具常采用這種（zhǒng）方（fāng）法。

2.化學拋光

化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法的（de）主要優點是不需複（fù）雜設備，可以拋光形狀複雜的工（gōng）件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。化學拋光得到的（de）表麵粗糙度一般為數10μm。

3.電解拋光

電解拋光基本與（yǔ）化學拋（pāo）光相同，即靠選擇性地溶解材料表麵微（wēi）小（xiǎo）凸出（chū）部分，使表麵光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果（guǒ）較好。電化學拋光過程分為（wéi）兩步：

（1）宏觀平整。溶解產物向電解液中擴散（sàn），材料表麵（miàn）幾（jǐ）何粗糙度下降，Ra>1μm；

（2）微（wēi）光平整。陽極極化，表麵光亮度提高，Ra<1μm。

4.超聲波拋光

將工件（jiàn）放入磨料（liào）懸浮液中，並一起置於超聲波場中，依靠超聲波的（de）振動作用，使（shǐ）磨（mó）料在工件表麵磨削拋光。超聲（shēng）波加工宏觀力（lì）小，不會引起（qǐ）工件變形，但工裝製作和安裝較困（kùn）難（nán）。

超聲波加（jiā）工可以與化學或電化（huà）學方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動（dòng）攪拌溶液，使工件表麵溶解產物脫離，表（biǎo）麵附近的腐（fǔ）蝕或電（diàn）解質均勻；超聲波在液體中的空化作用還能夠抑製（zhì）腐蝕過程，利於表麵（miàn）光亮化（huà）。

5.流體拋光

流體拋（pāo）光，是依靠高速流動的液體及其攜（xié）帶的磨粒衝刷工件表麵達到拋光的目的。常用方法有（yǒu）：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。

流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨（mó）粒（lì）的液體介質（zhì）高速往複（fù）流過工（gōng）件表麵。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料（liào）製成（chéng），磨料可采用碳化矽粉（fěn）末。

6.磁研磨拋光

磁研磨拋光，是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨（mó）料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質量好，加工條（tiáo）件容易控製，工作條件好。采用合適的磨料，表麵粗糙（cāo）度可以達到Ra0.1μm。