塑料成型工藝中描（miáo）述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋（pāo）光。它不僅對拋光

本身有很（hěn）高的要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也（yě）有很高的標準。表麵拋光（guāng）通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四個級別。

　　對於電解（jiě）拋光、流體拋光的過程（chéng）中，它是（shì）難以（yǐ）準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁（cí）性拋光的、表麵質量不（bú）是必需的，精密模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半（bàn）精細拋（pāo）光主要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密（mì）拋光主要製作金剛石（shí）膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發（fā）的痕跡，拋（pāo）光布為9um的金剛石研磨膏你可以使（shǐ）用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿（jiāng）料進行拋光。要求精度為1微米或更大（dà）（包括1微（wēi）米）的拋光工藝（yì）

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵（chén）、煙霧，頭皮屑（xiè）和唾液可能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時（shí）後獲得（dé）。

　　3、為了（le）獲得機械拋光的基本程序，高（gāo）質量的拋光效（xiào）果，最重要的是要有高質量（liàng）的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重（chóng）要的是一個（gè）複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序（xù）的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光（guāng）的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被（bèi）選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機旋轉。常見（jiàn）的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火（huǒ）花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和（hé）煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用（yòng）順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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